2018年9月10日-13日，2018年高电压工程与应用国际会议（ICHVE）在希腊首都雅典召开。
ICHVE系列会议由重庆大学孙才新院士和密西西比州立大学Grzybowski教授倡导和创办，于2008年在重庆首次举行。2016年ICHVE会议升级为IEEE 电介质与电气绝缘学会（IEEE DEIS）全权主办的国际会议，在全球范围内每两年举办一届。
2016年会议第一次获批以孙才新名字命名的国际性学术奖项——IEEE Caixin Sun and Stan Grzybowski Achievement Award。该奖项由IEEE电介质与绝缘学会（DEIS）于2017年设立，由孙才新教育基金资助，用于表彰全球范围内在高电压和电介质材料领域做出杰出贡献的学者。
本届会议第一次颁发了以孙才新院士名字命名的国际性学术奖项——IEEE Caixin Sun and Stan Grzybowski Achievement Award。
在13日颁奖典礼上，由才新基金主席吴绍琪女士和本届会议评奖委员会主席Stanislaw Gubanski教授揭晓了2018年青年学者成就奖、终身成就奖 以及最佳学生论文奖的入选名单，并为两位杰出中青年学者和十位最佳学生论文奖获得者颁奖。
清华大学李琦副教授获得青年学者成就奖，日本东京都市大学Yasuhiro Tanaka教授获得终身成就奖。
2018获奖者信息已发布在DEIS学会网站上：https://www.ieeedeis.org/2018-ieee-caixin-sun-and-stan-grzybowski-awards/
国内获奖学生：
重庆大学电气学院博士研究生何理。
重庆大学电气学院博士研究生尹泽
清华大学电机系博士生孟鹏飞。